展超网2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会基本信息
时间：2023年11月22-24日
地点：上海新国际博览中心
展会简介
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。
随着集成电路产业的发展，高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管，推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展，在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下，先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。“2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会”将于11月22-24日在上海新国际博览中心隆重举办，欢迎广大相关单位参展、参观！
2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会
ASML宣布加快向中国出售光刻机，这意味着中国半导体行业迎来了重大机遇。随着中国加大自主创新和自主制造的步伐，减少对外部光刻机的依赖是关键，而这恰恰是提高中国半导体制造能力和技术水平的重要因素。下面将从ASML宣布加速向中国出售光刻机、光刻机在半导体制造中的重要作用、如何避免依赖外部光刻机等角度进行分析，为读者全面解读中国半导体行业迎来的机遇和挑战。
